案例一: KRI霍爾離子源輔助真空蒸發(fā)鍍膜, 用于鍍件表面清潔

真空蒸發(fā)鍍膜是在真空條件下, 加熱蒸發(fā)物質使之氣化并沉淀在基片表面形成固體薄膜.

真空蒸發(fā)鍍膜的基本工藝流程: 鍍前準備→抽真空→離子轟擊→烘烤→預熔→蒸發(fā)→取件→膜層表面處理→成品

真空蒸發(fā)鍍膜的工藝流程圖
 

真空蒸發(fā)鍍膜的工藝流程中, 就是由KRI霍爾離子源產生的離子轟擊進行鍍件表面清潔的離子

案例二: KRI  射頻離子源輔助磁控濺射鍍膜

磁控濺射鍍膜原理：電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞, 電離出大量的氬離子和電子, 電子飛向基片. 氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材, 濺射出大量的靶材原子, 呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜.

磁控濺射鍍膜工藝流程圖
 

KRI 射頻離子源主要是用在磁控濺射鍍膜工藝的第五步, 對靶材進行轟擊.

使用伯東 KRI離子源用于輔助5G技術-陶瓷手機蓋板鍍膜, 保證陶瓷手機蓋板鍍膜的質量, 提高生產率.

通過市場證明, KRI離子源實現(xiàn)離子輔助鍍膜 IBAD 及預清潔 Pre-clean 功能后, 所生產出的陶瓷手機蓋板鍍膜無論是環(huán)境脫膜測試, 耐刮測試, 膜層應力測試等等… 都優(yōu)于目前一般業(yè)界蒸鍍機所搭配的離子源.
 

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

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