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考夫曼射頻離子源RFICP220輔助磁控濺射沉積Cu-W 膜

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  為了得到最jia性能的磁控濺射 Cu-W 薄膜某大學(xué)新材料研究所采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 輔助磁控濺射技術(shù)在基片上沉積 Cu-W .

 

KRI 射頻離子源 RFICP380 技術(shù)參數(shù):

portant;">

射頻離子源型號(hào)

portant;">

RFICP380

portant;">

Discharge 陽極

portant;">

射頻 RFICP

portant;">

離子束流

portant;">

>1500 mA

portant;">

離子動(dòng)能

portant;">

100-1200 V

portant;">

柵極直徑

portant;">

30 cm Φ

portant;">

離子束

portant;">

聚焦平行散射

portant;">

流量

portant;">

15-50 sccm

portant;">

通氣

portant;">

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

portant;">

典型壓力

portant;">

< 0.5m Torr

portant;">

長(zhǎng)度

portant;">

39 cm

portant;">

直徑

portant;">

59 cm

portant;">

中和器

portant;">

LFN 2000

 

上圖為磁控濺射系統(tǒng)工作示意圖

 

KRI 離子源的獨(dú)特功能實(shí)現(xiàn)了更好的性能增強(qiáng)的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無法實(shí)現(xiàn)的因此伯東的KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP380 被客戶采用作為 4, 5 濺射離子源.

 

客戶材料:

基片為φ25mmX4mm 的玻璃片靶純度 99.9%尺寸 φ76mmX4mm銅靶純度 99.99%尺寸 φ76mmX4mm工作氣體為純度 99.99% 的氬氣.

 

運(yùn)行結(jié)果:

當(dāng) W 含量在11.1%時(shí)Cu-W 薄膜具有最hao的硬度和耐磨性.

 

伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵檢漏儀質(zhì)譜儀真空計(jì)美國(guó) KRI 考夫曼離子源美國(guó)HVA 真空閥門美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī)美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.

 

若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息或討論請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式:

上海伯東羅先生                               臺(tái)灣伯東王女士
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