KRI 射頻離子源 RFICP380 技術(shù)參數(shù):

該實(shí)驗(yàn)以 99.9% 純度 Ti 靶和純度石墨靶為原材料, 通過(guò)離子濺射技術(shù)在硬質(zhì)合金表面制備 Ta-C涂層.

研究結(jié)果:

石墨靶濺射時(shí)間 55min 時(shí)制備的 Ta-C涂層綜合性能較優(yōu), 涂層摩擦系數(shù)較低達(dá)到 0.13, 對(duì)膜副表面形成了石墨轉(zhuǎn)移膜, 對(duì) Ta-C 涂層起到潤(rùn)滑作用.

伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó)HVA 真空閥門(mén), 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.

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