MITO DENKO水戶電工MBE-260_MBE裝置


MBE裝置MBE-260概要：
水戶電工MBE設(shè)備是超高真空裝置，可以用從外部引入的激光在真空中激發(fā)，并將材料沉積在襯底上。



MBE裝置MBE-260規(guī)格參數(shù)：  
Configure                                                                                                    Spec

Processing room 
and vacuum exhaust system                   Chamber Sharpφ260mm               Spherical SUS
                                                              Reaching vacuum                          Less than6.7×10-7Pa (5×10-9Torr)
                                                              Ceramic bearing 
                                                              turbo pump                                   250L/s
Target revolution unit                             φ20mm×6 axes
                                                              Rotation / revolution motor drive (PC control)
Substrate heating unit                            Infrared lamp substrate heating unit (can be changed to semiconductor 
                                                              laser substrate heating unit)
                                                              Size of substrate                            10mm
                                                              Maximum                                      
                                                              heating  temperature                     Above 800℃
Common specification                            Power supply / control rack (JIS standard compliant) integrated chamber frame
                                                              PLD automatic control system (PC and control software)



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