獵戶座3100S  
AMC空氣分子污染物監測系統  
一、AMC空氣分子污染物監測系統3100S產品介紹：  
1、實踐證明深紫外光刻工藝深受多種類微量污染物的影響，對很多微量污染物極為敏感，比如氨氣或者酸性氣體都會給半導體生產帶來較大的危害，盡管隨著深紫外耐腐蝕材料技術的發展，已經減少了長時間持續實時監測，而實際上空氣分子污染（AMC）的實時測量對產品質量的好壞至關重要。  
2、獵戶座3100S系列空氣分子污染物監測系統基于CEAS（腔增強吸收光譜）技術連續分析儀器，將增加半導體器件阻抗一致性、保證更長的過濾器壽命、減少生產過程的停工時間。  
3、ETGHMI（人機交互界面）軟件可以實時觀察、實時測量、實時操作對不同空間不同位置的NH3、HCL、HF進行分析，軟件專門針對半導體行業開發，對于深紫外光刻工藝過程中監測與控制空氣分子污染（AMC）提供有力的支持，軟件集成了多點采樣（MS）控制功能，具有實時顯示數據曲線、報警、存儲、趨勢、歷史曲線、分析等功能。  
二、AMC在線監測獵戶座3100S系統介紹：  
1、實時監測空氣分子污染（AMC）對于半導體生產過程極為重要。  
2、快速監測、報警、極低濃度測量、寬測量區域、多氣體的高靈敏響應等是半導體工業要求之一。  
3、深紫外光刻工藝量，當這些氣體與化學放大光刻膠反生反應時，將深深的影響半導體器件質量。  
4、傳統古老的方法多采用間接測量分析方法。包括撞擊濾塵器、離子色譜、化學熒光法，這些方法分析速度太慢，操作過程太復雜，昂貴并且測量結果不準確。  
5、ETG采用被證明的CEAS（腔增強吸收光譜）技術解決AMC（空氣分子污染物）監測難題，可快速測量痕量級NH3、HCL、HF，采用脈沖熒光法測量SO2，采用增強型GC-FID測量VOCs。  
6、獵戶座3100S系列空氣分子污染物監測系統測量痕量級NH3、HCL、HF并集成了uVOC-CAM特性，是半導體行業潔凈室AMC（空氣分子污染）測量的有力工具。  
7、獵戶座3100S也集成了多點監測系統，可依序將氣體抽送到分析儀或傳感器，并讀出測量結果。獵戶座3100S內嵌的報警、報告、分析軟件是由多年半導體行業經驗的工程師集體開發。  
8、獵戶座3100S使用Ethernet、RS485/RS232或4-20mA模擬模塊可以輸出來自4~6臺分析儀或傳感器的數據。  
9、每臺分析儀配有內置計算機（LinuxOS），可進行數據存儲和數據輸出，還支持遠程網絡控制，通過互聯網可以連接ETG公司總部或者當地經銷商服務商，進行操作或者診斷。  
10、使用者可以通過網絡瀏覽器比如IE、Chrome等世界任意可以聯網的地方進行操作，遠程操作可實現多級管理權限控制和操作。
本產品信息由北京杜克泰克科技有限公司整理發布，更多關于AMC在線監測的信息請訪問： 
http://www.bjdktech.com/Products-35489416.html 
https://www.chem17.com/st307321/erlist_2204526.html