無掩模納米光刻機采用全新的技術路徑提高加工分辨率，一舉突破突衍射極限的限制，成功實現(xiàn)納米尺度加工；突破了目前激光直寫僅能用于有機光刻膠的現(xiàn)狀，可以廣泛應用于各種受體材料，極大地擴展了激光直寫設備的應用范圍。
新一代激光直寫光刻設備特點
具有核心知識產(chǎn)權(quán)的國產(chǎn)激光直寫設備
具有超越衍射極限的加工能力
納米光電子設備可適用于多種受體材料
本公司可根據(jù)客戶需要提供定制設備并提供各種微納結(jié)構(gòu)樣品的加工服務。
一、激光直寫系統(tǒng)的工作原理
激光直寫系統(tǒng)是一種利用激光束直接刻寫三維結(jié)構(gòu)的制造方法，其基本工作原理如下：
首先，計算機輔助設計（CAD）軟件將所需制造對象的三維模型轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號，并發(fā)送給該產(chǎn)品的控制器。
然后，激光束聚焦到極小尺寸（通常小于1微米），通過掃描控制器按照預定軌跡精確地切割或燒蝕材料表面。此時，激光束強烈的能量密度使得原材料表面發(fā)生物理、化學反應，形成被切割、燒蝕的結(jié)構(gòu)。
最后，重復以上步驟，直到制造對象的所有部分都被刻寫完成。整個過程由計算機程序控制，可以自動化操作。
無掩模納米光刻機
http://www.huaweina.cn/Products-37611977.html
https://www.chem17.com/st567305/product_37611977.html