工業(yè)拋光研磨機  630拋光研磨機 640拋光研磨機 專注平面研磨拋光 研磨拋光機方法步驟 振動拋光研磨機用法 拋光研磨機用法 歐科研磨機產(chǎn)品 拋光研磨機廠家優(yōu)選

640拋光研磨機簡介：

拋光機也稱為研磨機，常常用作機械式研磨、拋光及打蠟。

拋光研磨機工作原理是：電動機帶動安裝在拋光機上的海綿或羊毛拋光盤高速旋轉(zhuǎn)，630拋光研磨機由于拋光盤和拋光劑共同作用并與待拋表面進行摩擦，進而可達(dá)到去除漆面污染、氧化層、淺痕的目的。

當(dāng)拋光機配合拋光液，拋光盤，拋光墊，拋光布等配件一塊使用的時候，工業(yè)拋光研磨機就是作為一個拋光工具在使用；而當(dāng)拋光機配合研磨盤和研磨液使用的時候，拋光研磨機就是作為一個研磨工具在使用了。

1.精密平面研磨拋光機機床特點：

振動式拋光機主要氣動、電器配套件均為進口.設(shè)備有五個拋光頭，每個拋光頭與粘片盤以氣軸方式定位，開啟主機對工件單面拋光時，粘片盤隨主盤不斷轉(zhuǎn)動，達(dá)到單面拋光的目的。設(shè)備拋光頭能完成上升、下降。操縱面板上安裝有主機電位器、拋光頭升、降、緩降按鈕，以方便操作。拋光時間設(shè)定了時間繼電器和壓力調(diào)節(jié)顯示表等操縱件，其均位于顯示面板上，完成相應(yīng)操作功能。拋光過程可設(shè)定正、反兩種狀態(tài)。調(diào)速方式采用變頻調(diào)速，調(diào)速平穩(wěn)，低速性能好。

2.平面拋光研磨機視頻適用范圍：

本機平面研磨拋光設(shè)備主要用于鈮酸鋰片、硅片、鍺片、砷化鉀、磷化鉀、玻璃、陶瓷等片狀材料的單面拋光。

3.粉碎研磨設(shè)備技術(shù)參數(shù)：

1. 實驗室常用研磨機設(shè)備拋光盤直徑：（外徑×內(nèi)徑） Φ610mmx250mm

2. 拋光盤端面跳動量： ≤0.06mm

3. 拋光盤平面度： ≤0.025mm

4. 主電機： 2.2kw 1450r/min 380V

5. 較小拋光厚度： 0.20mm

6. 較大拋光件規(guī)格： Φ180mm

7. 拋光件表面平面度： 0.001mm（Φ 35mm）

8. 加工件厚度一致性： ±0.004mm（Φ 75mm）

9. 設(shè)備外形尺寸： （長×寬×高）1000mm×820mm×1900mm

10. 質(zhì)量： 約1200kg

 研磨機和拋光機含義還是有所不同的。雖然兩者都是為了使產(chǎn)品精細(xì)化的，但是兩者處理的程度并不一樣。一些產(chǎn)品只需要粗粗的處理一下就行了，但有的產(chǎn)品必須要精密的處理，拋光機更多應(yīng)用于精細(xì)的處理方面，所以研磨是前期，拋光是后期，并不相沖突。研磨和拋光是同一種機械運動，原理一樣。只是對于表面質(zhì)量而言，拋光的表面光潔度比研磨要更高一些。

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